儀器

         配置及技術參數

                                    應用及特色項目

   掃描電鏡SEM

         主要配置:

         EDS:布魯克30mm雙探測器（分辨率123eV）；

         EBSD：定向背散射電子探測器；

         高分辨紅外CCD；

         氣體二次電子探測器；

         超高真空系統；高真空/低真空/環

         境真空系統，壓差光鑭。

         拋光機；切割機；脆斷/冷鑲設備；

         打磨機

         技術參數：

         支持環境模式；

         分辨率：環境掃描電子顯微鏡：3-8nm

         冷場掃描電子顯微鏡：0.8-1.2nm

                  物質的形貌0/尺寸分析、膜層分析、EDS元素分析（定性、定量、線分布、面分布、

                  超級面分布）、活體細胞觀察、失效分析、金相分析等。廣泛用于材料、化學、

                   生物、醫學、地質等各類領域

  透射電鏡TEM

        主要配置：

         單球差校正器；

         EDS：INCA能譜儀

         離子減薄，激光超薄切片機。

         技術參數：

         分辨率：亞?級

                  物質的形貌/尺寸觀察、電子衍射圖片，二維晶格面、明/暗場圖片、元素分析

                （定性、定量、線分布、面分布、超級面分布）。廣泛用于材料、化學、生物、

                  醫學、地質等各類領域

原子力顯微鏡AFM

         分辨率：分辨率0.1nm

         臺階0.3nm-500nm

                  物質的表面形貌成像、鏡片/磁盤分析、表面粗糙度、紋理質量